英特尔延后决定美欧新厂计画 总投资额2,000亿美元

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    英特尔执行长基辛格(Pat Gelsinger)16日在马来西亚与媒体谈话。  美联社(photo:UDN)
    英特尔执行长基辛格(Pat Gelsinger)16日在马来西亚与媒体谈话。 美联社(photo:UDN)

    美国科技新闻网站Tom's Hardware周四(16日)报导,英特尔(Intel)已延后决定在美国与欧洲多个据点的新晶圆厂建厂计画。这些新厂推动方案原本预定要在今年底以前敲定,总投资金额高达2,000亿美元。延后原因不明,但对全球半导体业没有太大的立即直接影响。

    英特尔执行长基辛格(Pat Gelsinger)正在亚洲访问,他周四在马来西亚宣布英特尔要在当地投资约71亿美元,兴建新的封测厂。路透引述他在马国记者会上表示,「明年初」希望能够宣布英特尔美、欧新厂的地点。

    以英特尔今年稍早公开的IDM 2.0发展策略,除了生产自家产品之外,也计画成为有竞争力的晶圆代工业者。若要达成这样的目标,英特尔需要扩大目前的制造规模,增设新工厂。考虑的设厂据点包括美国本土和欧洲。

    英特尔今年在其美国亚利桑那州Ocotillo厂区,已动土开始增建两个新的制造设施,以期扩充既有厂区的产能,投资额约200亿美元。找新据点、建设如小城市一般的新厂区,需要投注的资金以美国为例,须提高到600亿到1,200亿美元。