信越化学56年来首在日本盖新厂 生产光阻剂等半导体材料

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    日经亚洲报导,信越化学(Shin-Etsu)将在日本盖新厂,将生产光阻剂等用于半导体制程的材料,是该公司56年来首度在国内设立新工厂。路透(photo:UDN)
    日经亚洲报导,信越化学(Shin-Etsu)将在日本盖新厂,将生产光阻剂等用于半导体制程的材料,是该公司56年来首度在国内设立新工厂。路透(photo:UDN)

    日经亚洲报导,全球最大PVC(聚氯乙烯)与硅晶圆供应商信越化学(Shin-Etsu)将在日本盖新厂,是该公司56年来首度在国内设立新工厂,此时正值日本政府大力推动强化本国的半导体供应链。

    信越化学的新厂将在2026年完工,将生产光阻剂与其他用于半导体曝光制程的材料。

    日经亚洲报导,信越计划在群马县南部城市伊势崎占地约15万平方公尺的土地投资约830亿日圆(5.47亿美元)。该公司上次在日本国内设厂是在1970年,生产氯乙烯等材料。

    信越控制全球约20%的光阻剂市场,据信掌握先进产品市场的至少40%。目前信越在台湾和日本新潟县生产光阻剂材料,分别在2021年和2022年扩增产能。

    新的群马厂将做为信越半导体材料的策略中心,包括对南韩、美国等地的出口。该公司计划最终在当地进行研发工作。

    同时间,竞争同业三井化学的山口县工厂正在扩厂,该厂生产光罩护膜,是用于保护光罩在进行曝光期间免受灰尘污染和损伤的一层薄膜。随着半导体微影设备龙头荷商艾司摩尔(ASML)计划推出更多先进的微影设备系统,三井化学目标提供更坚固、更透明的奈米碳管薄膜。三井化学将投资50亿至90亿日圆,目标2025年或2026年开始量产。

    日本为了强化半导体供应链,同时重视提高国内的晶片生产材料供应。Fujifilm公司已在日本境内生产用于抛光晶圆的化学机械抛光(CMP)浆料,大阳日酸公司计划2026年在日本开始生产氖气,这是用于半导体制程中的一种气体。

    日本一直维持在半导体材料领域的领先优势,多年来掌握的技术知识无法被轻易规格化或复制。根据英国研究业者Omdia的资料,在六大半导体生产材料中,日本业者掌握约50%的市占,高于台湾的17%与南韩的13%。