分析：华为晶片领域突破恐引发美国更严厉审查

分析：华为晶片领域突破恐引发美国更严厉审查(图：REUTERS/TPG)(photo:CnYes)

路透周二 (5 日) 报导，分析人士认为，华为在制造先进晶片方面取得突破，凸显中国反击美国制裁的决心和能力，但这些努力可能代价高昂并促使华府收紧限制。

华为上周在美国商务部长雷蒙多 (Gina Raimondo) 出访中国期间出人意意料推出最新款 Mate 60 Pro 智慧手机。与此同时，北京政府准备设立一个新的 400 亿美元投资基金扶植本土晶片产业发展。

根据半导体研调公司 TechInsights 表示，Mate 60 Pro 採用的是中芯国际 (9881-HK) 所生产的新款「麒麟 9000」晶片，这是头一款採用中芯最先进 7 奈米制程技术的晶片。

根据调研公司的发现和该款手机强大的性能表明，中国在开发先进晶片方面正取得一些进展，尽管华府近年来加大致财利到，阻止中国获得先进晶片制造工具。

TechInsights 的分析师 Dan Hutcheson 表示，这也意味着中国半导体产业在没有极紫外光 (EUV) 光刻机的情况下能取得技术进步，这一成就的难度也凸显该国晶片技术能力的弹性。与此同时，这也是那些试图限制中国获得关键制造技术国家的一个巨大地缘政治挑战。

Jefferies 分析师认为，TechInsights 的调查结果可能引发美国商务部和工业和安全局 (Bureau of Industry and Security) 的调查，在美国引发更多有关制裁有效性的辩论，并促使国会在准备对中国的竞争法案中纳入更多严厉的科技制裁。

总而言之，美中两国科技暂可能会升息。对此，美国商务部、中国国务院和中芯国际并未立即回应置评请求，而华为则是拒绝置评。

突围有限！7 奈米晶片制造良率低且成本高昂

中芯国际此前最先进的晶片是 14 奈米制程技术，因为该公司在 2020 年底被美国禁止从荷兰公司艾司摩尔 (ASML-US) 进口 EUV 光刻机。但 TechInsights 去年表示，中芯国际透过调整仍可从艾司摩尔免费购买的更技术简单的深紫外线 (DUV) 光刻机，成功生产 7 奈米晶片。

不过研究中国经济的「龙州经讯」(Gavekal Dragonomics) 分析师 Tilly Zhang 淡化华为与中芯国际的此次成功，理由是低良率减少每片晶圆的可用晶片数量且成本提高，而荷兰实施的新出口管制将限制中芯国际获得更多 DUV 光刻机。

另外一些研究公司预测，中芯国际的 7 奈米晶片技术制成良率将低于 50%，而产业标准为 90% 或更高，因此这将把出货量限制在 200 万至 400 万片左右，不足以让华为重获昔日在智慧手机的主导地位。

Jefferies 分析师预估，华为正准备出货 1,000 万台 Mate 60 Pro，尽管可能难以用本土制造的 7 奈米晶片来支撑这一数量。而在这种情况下，华为可能会转向 10 奈米晶片，但预估良率仅为 20%，远低于大多数消费设备的 90%。

哥本哈根商学院 (Copenhagen Business School) 晶片研究员 Doug Fuller 表示：「美国限制措施让中国受限的生产技术成本高昂，不过北京政府可能会为此埋单。」