IDC:中国距离半导体先进制程技术 仍落后3、4代

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    IDC:中国距离半导体先进制程技术 仍落后3、4代(图片:AFP)(photo:CnYes)
    IDC:中国距离半导体先进制程技术 仍落后3、4代(图片:AFP)(photo:CnYes)

    据报导,市场研究机构 IDC 分析师在週三 (19 日) 表示,即使中国花费数十亿美元来建立并增强国内半导体产业,但距离实现生产先进晶片技术还有一段路要走,目前该国的制程技术仍然落后 3、4 的世代。

    IDC 负责技术和半导体的副总裁 Mario Morales 在接受採访时表示:「我仍然认为,中国在先进半导体制程方面仍然落后 3、4 代。」他指出,所谓先进制程指的是 16 奈米或 14 奈米以下。其中大部分主要来自台湾和南韩,另一部分则是来自美国的英特尔 (INTC-US)。

    报导中指出,台湾和南韩在高阶晶片制程方面建立了无与伦比的地位,台积电 (2330-TW) 和三星电子都已经开始量产 7 奈米晶片。

    相较之下,中国在相关研发上投入更多资金,期望在该领域达到自给自足。不过,随着中、美两大国之间的紧张局势升级,美国针对华为和中芯国际等中国科技公司实施制裁,更促使中国当局加大力度,中国科技巨头阿里巴巴、腾讯、百度和美团都已经开始投资晶片研发。

    但是,Morales 认为,尽管中国进行了大量投资,但该国需要先获得生产先进高阶晶片所需的软体和设备。

    Morales 表示,专注于传统长尾技术的中国半导体公司表现良好,但是要发展到先进制程可能还需要 10 多年时间,才能具有竞争力。中芯国际目前有能力供应 28 奈米制程,也已经开始推出 14 奈米制程,但是,现实是他们需要客户来真正扩展这项能力,而中国生态系统却还没有开始使用这种技术。

    「因此,他们需要美国合作伙伴和客户,或是来自欧洲的客户,甚至是台湾客户,才能有效地提升这项技术,从而降低他们所需的成本结构。」Morales 说道。